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真空鍍膜設備

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常規(guī)配置
? 真空泵系統(tǒng)
低真空泵：旋片式機械泵（蒸壓機械泵：930m3 h-1）
高真空泵：擴散泵（選擇：低溫泵或滑輪分子泵）

? 真空閥系統(tǒng)
型號：3/8”，2”，4”，22“

? 真空室加熱系統(tǒng)
高溫度：0到400℃
型號：滷素燈（選擇：微型加熱器）
基片型號：球面型或行星型
轉速：0到30轉速/分
軟起，軟停，可調速瀘

? 電子控制系統(tǒng)
型號：計算機控制面板
可修改和改變任何需要的控制
全程控制鍍膜以達到產(chǎn)品所需的要求
提供所需要的技術信息

? 真空計系統(tǒng)
高真空感應器：2
低真空感應器：1

選擇配置
? 薄膜沉積控制系統(tǒng)
沉積控制：IC-5 （INFICON）
MDC360 （MAXTEK）等等
石英晶髓感應器:1，2，6頭

? 光控離子源
無柵型：直流型
燈絲型：直流型，頻射型

? 電子束源
容量：15cc，25cc，40cc等等
偏轉角度：180度或270度
坩鍋：4，6，8倜等等

? 深冷系統(tǒng)
除霜室
擴散泵

? 水冷卻系統(tǒng)
水或氣冷卻器

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